温度制御範囲:NT1 温室温室温室
温度制御の精度:±0.1°C (コラムオーブン,注射口,検出器)
プログラム温度上昇の繰り返し性:≤1%
クラッキング装置の温度範囲:RT~450°C
クラッキング装置の加熱速度:>500°C/分
ピロリシスの時間帯:0.01~99.99分
波長範囲:190nm～900nm
波長の正確さ:±0.2nm
波長の反復性:±0.1nm
テスト チャート:液体粉、固体
基本的な分析範囲:硫黄 (S) ~ウラン (U) (シリカゲルのNA,MG,AL,SI,Pは600PPM以上で測定できる)
一度に最も測定可能な要素:36種類
クラッキング装置の温度範囲:RT~450°C
クラッキング装置の加熱速度:>500°C/分
ピロリシスの時間帯:0.01~99.99分
基本的な分析範囲:ウラン（u）へのナトリウム（Na）から
内容分析範囲:1ppm~99.99%
作業安定性:0総発光強度の0.1%
保存時間の繰り返し性:< 0.008% または < 0.0008 分
最大面積再生可能性:< 0.5% RSD
暖房 (最大暖房速度):120 ̊C/分
